慕尼黑上海光博會將于2025年3月11-13日在上海新國際博覽中心盛大召開。2025年正值慕尼黑上海光博會20周年，作為亞洲激光、光學、光電行業的年度盛會，本屆展會以“躬耕不輟，智啟新程”為主題，超過1400家展商將齊聚申城，共同探索光電產業的未來發展方向。展會邀請函頤光科技將攜核心技術產品和解決方案參展，我們誠摯邀請各位新老朋友蒞臨頤光展臺，希望通過此次機會與業內同仁、專家們共同交流探討、共商合作、互利發展。展館平面圖頤光科技展位：E7館7472產品介紹關于我們武漢頤光科技...

紅外橢偏儀是一種高度精密的光學分析儀器，主要功能是在紅外光譜范圍內對材料進行無損表征。它通過測量材料對紅外光的反射或透射過程中偏振狀態的變化，從而推斷出樣品的諸多物理屬性，如介電常數、光學性質、薄膜厚度等。作為一種先進的光學測量工具，紅外橢偏儀能夠以非破壞性的方式獲取材料的多種物理性質。具體而言，它可以精確測量如下幾類關鍵物理量：1、光學常數：包括復折射率（實部n與虛部k）、吸收系數α。這些參數對于理解和預測材料的電磁行為至關重要，如色散關系、反射率、透射率等。2、薄膜厚度：...

光譜橢偏儀（SE）是一種高精度的光學測量儀器，廣泛應用于薄膜材料的表征與質量控制。通過測量反射光的偏振變化，光譜橢偏儀能夠提供薄膜的厚度、折射率、消光系數等重要參數，進而評估薄膜的光學性質、表面質量以及結構特征。近年來，隨著薄膜技術的進步，橢偏儀在薄膜質量控制中的應用取得了顯著的創新性進展。1、薄膜厚度與光學常數的精準測量橢偏儀常見的應用是薄膜厚度和光學常數的測量。在薄膜的生產過程中，厚度控制對于其性能至關重要。例如，在半導體制造中，薄膜的厚度直接影響器件的電學性能和可靠性。...

在薄膜制造和涂層工藝中，精確控制薄膜厚度對于產品的質量和性能至關重要。光學膜厚傳感器作為一種先進的非接觸式測量工具，憑借其高精度、實時反饋和適用范圍廣的特點，在半導體、顯示器、太陽能電池、光學器件等多個高科技領域得到了廣泛應用。選擇正確的光學膜厚傳感器對于確保測量的準確性、效率以及適應具體的工業應用至關重要。以下是幾個關鍵因素，它們會指導您在各種選項中做出合適的選擇：1、測量對象特性首先，考慮您的測量目標——即薄膜本身的特點。這包括但不限于：-材料屬性：薄膜是由哪種材料制成的...

在選擇薄膜折射率測試儀時，考慮到這種設備在科研、生產和質量控制中起到的關鍵作用，有幾個核心特性是不容忽視的。這些因素將直接影響到測量的準確性、效率和成本效益。下面是一些重要考量點：1、測量范圍和精度a.測量范圍：不同的薄膜材料可能有不同的折射率范圍，選擇一個能覆蓋目標薄膜折射率范圍的薄膜折射率測試儀至關重要。此外，一些高級設備還能同時測量消光系數，這對于非透明或半透明薄膜尤為重要。b.精度：精度是衡量測試儀性能的核心指標。更高的精度意味著更低的標準偏差，這對于需要高準確度的科...

在線膜厚儀的準確性和可靠性是確保生產質量的關鍵。為了保證測量的準確性和可靠性，通常會采取以下幾種措施和方法：一、校準與標定1.定期校準：儀器應定期進行校準，以確保測量結果的準確性。校準應使用標準厚度的樣品或已知厚度的參考材料。2.環境適應性校準：考慮到溫度、濕度等環境因素可能對測量結果的影響，一些高級的在線膜厚儀具備環境補償功能，能夠在不同環境下保持測量精度。二、先進的測量技術1.多技術融合：采用多種測量技術，如磁感應、渦流、光譜反射等，以提高測量的適應性和準確性。2.實時數...